Gartner研究副總裁Takashi Ogawa指出，2017年的增長勢頭主要來自于內(nèi)存和先進邏輯組件的強勁需求。2017年第一季度，NAND閃存的短缺情況超乎之前的預測，3D NAND閃存的強勁需求預計將讓蝕刻和化學氣相沉積(CVD)在今年度增長超過20%。
Gartner同時指出，下一個資本支出的周期性下降將出現(xiàn)在2018年-2019年，而上一季度的預測則是在2019年-2020年之間。晶圓制造設備的支出將在2018年達到頂峰。盡管2018年很可能仍然保持正增長，但若最終用戶對關鍵電子應用的需求不如預期，屆時可能出現(xiàn)負增長的情況。
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